Polishing (高度精製) 目的 一般的な高度精製は、陰イオンと陽イオン交換クロマトグラフィで行われるそれでも十分な精製度が得られない場合、疏水やマルチモーダルの担体が用いられる基本的なレジンとその条件設定が確定できれば、レジンの粒径を小さくすることで、ピークの分離は向上する 考慮事項 抗体の場合は、プラットフォーム精製が存在するProtein A (Binding/Elution)AEX (Flow-through )CEX (Binding/Elution)Virus FiltrationUF/DF (バッファ交換/濃縮)添加剤添加分注保管 研究初期段階で、抗体以外のレアなタンパク質の精製の場合AECまたはCEXでCapturing工程として精製するその場合、バッファ交換が必要ない条件設定を構築した方が良い。以後の追加精製が楽になるConductivityは、容易に・・・
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